抛光垫

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聚氨酯抛光垫
聚氨酯抛光垫是耐用性能较高的抛光垫,聚氨酯预聚物、硬化剂和发泡剂按混合后,注入定型容器中做成块状,然后通过切片机加工成最终片状抛光垫。

通常被使用于要求高平坦性的抛光工序。

应用领域:
LCD用玻璃基板,玻璃圆盘,光学镜片等材料CMP。

定制服务:
硬度、尺寸、沟槽等可按需求定制。

聚氨酯抛光垫


型号

密度g/cm3

压缩率%

压缩弹性率%

硬度邵氏A

填料

性能特点

应用

PU-77

0.42

2

85

78A

氧化铈

韧性好,耐磨

盖板玻璃、LCD基板

PU-80

0.49

1.5

90

81A

氧化铈

硬度稍高,平面度好

玻璃、精密光学

PU-85

0.55

1.2

87

86A

氧化锆

切削力强,针对硬性材质

透镜,石英玻璃

PU-40D

0.5

1.2

75

40D

NA

耐强碱,抛光速率高

蓝宝石窗口片

PU-70D

1.1

1

85

70D

NA

超硬材质,搭配钻石液

陶瓷、金属研磨减薄

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无纺布抛光垫
无纺布抛光垫是一款毛毡状的抛光垫,能磨出一定程度的平坦性和平滑性,性能处于聚氨酯抛光垫和阻尼布抛光垫的中间位置。

通常被使用于粗磨或中磨。

应用领域:
半导体晶圆,蓝宝石,光学镜片,金属等材料CMP。

定制服务:
硬度、尺寸、沟槽等可按需求定制。
无纺布抛光垫

型号

密度g/cm3

压缩率%

压缩弹性率%

硬度邵氏A

性能特点

应用

NW-70

0.36

4-5

90

72A

耐磨不拉丝,寿命长

金属、不锈钢精抛

NW-75

0.37

4-5

80

76A

软性材质,贴合性好

蓝宝石衬底搭配氧化硅

NW-80

0.37

3-4

80

80A

搭配氧化硅,表面质量高

硅片、砷化镓衬底

NW-90

0.45

2-3

70

90A

搭配氧化铝,抛光速率高

蓝宝石、碳化硅衬底


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阻尼布抛光垫
阻尼布抛光垫是一种丝绒状的抛光材料,质地细腻、表面柔软、且布满小孔,使用时能很好地容纳抛光液,提高切削力的同时能避免划伤工件。

通常被使用于高平滑性,低欠陷性的精磨工序。

应用领域:
半导体晶圆,LED玻璃主板,蓝宝石玻璃、金属等的精抛。

定制服务:
硬度、尺寸、沟槽等可按需求定制。



阻尼布抛光垫

型号

密度g/cm3

压缩率%

压缩弹性率%

硬度邵氏A

性能特点

应用

DPP-70

0.55

4-5

75

72A

PET基材,高平整度

不锈钢精抛

DPN-55

0.34

7-8

80

56A

无纺布基材,通用型

光学,LCD精抛

DPN-60

0.34

7-8

70

60A

长绒毛抛光层

半导体衬底精抛

DPN-65

0.46

3-4

85

67A

高硬度绒毛

蓝玻璃精抛