消费电子CMP材料整体解决方案
SAPOL抛光液：适用于蓝宝石、陶瓷、钽酸锂、玻璃等非金属材料CMP的抛光液。 
MEPOL抛光液：适用于金属材料CMP的抛光液。
无纺布抛光垫：通常被使用于粗磨或中磨，具有一定程度的平坦性和平滑性。
阻尼布抛光垫：通常被使用于高平滑性，低欠陷性的精磨工序。 
聚氨酯抛光垫：通常被使用于要求高平坦性的抛光工程。
金属清洗剂：小类合金材料的专用清洗剂。
抛光蜡：适用于氧化铝、碳化硅、碳化硼、氧化铈等常用磨料，均能提供良好持久的分散能力。

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