SAPOL抛光液：适用于蓝宝石、陶瓷、钽酸锂、玻璃等非金属材料CMP的抛光液。
COPOL抛光液：适用于化合物半导体CMP的抛光液。
无纺布抛光垫：通常被使用于粗磨或中磨，具有一定程度的平坦性和平滑性。
阻尼布抛光垫：通常被使用于高平滑性，低欠陷性的精磨工序。
固态蜡： 粘结牢固，无气泡或高低不均等不良，可解决加工过程中因粘结造成的裂片等问题。
吸附垫：将工件黏附在制具上，润湿后特殊微孔吸附住工件，使工件在加工过程中固定不脱落。
分散剂：可均一分散难于溶解于液体的固体及液体颗粒，同时防止颗粒的沉降和凝聚。
